電子部品・信頼性評価
半導体／ＭＥＭＳ試作【実験・開発／試作】加工
豊富な独自の加工ノウハウの蓄積により、開発コストの削減やスピーディな研究開発を実現するとともに、試作生産に対しても的確にお応えいたします。
（サービスプロセス）
（加工プロセス及び設備）
フォトマスク作成からご用命下さい。（ＣＡＤ含む）
PE-CVD, LP-CVD膜付加工もご相談ください！
(Ｑ＆Ａ）
このような場合では・・・？ こんな条件では・・・？
ご質問にお応えいたしますので、お気軽にお問い合わせください。
| Ｑ | Ａ |
|---|---|
| 成膜可能な基盤サイズは？ 基盤形状は？ |
400ｍｍ以上のホルダーが付いていますので、基盤取付けが可能であれば大きくても問題ありません！ 100ｍｍSi-waferで20枚以上、200ｍｍで４枚以上が一度に処理可能です。 |
| 膜付きの基盤を支給させてもらい、その上に成膜可能ですか？ | Ｒ＆Ｄのサポート専門メーカーですので、人的・装置的影響がないものは出来る限りトライさせていただきます。また、材料支給もお受けいたします。 |
| 露光できる基盤の大きさは？ | 現在100ｍｍφor 100ｍｍ角迄ですが、設備投資いたしましたので、8インチφまで対応可能になりました。 |
| 基盤からお願いできますか？ | ウエハでもガラスでも一元窓口が可能です（対応できます）。 |
| チャンバーのメンテナンスは？ | 作業終了後毎回装置メンテナンスをしております。 |
| 支給材料を成膜してもらえますか？ | 弊社はデバイスメーカーではありませんので、出来るだけご支給基盤を受け入れております。しかし、人体や装置に害を及ぼすものはご容赦願います。 |
| 機密事項の漏洩は大丈夫ですか？ | 必要に応じて、機密保持（ＮＤＡ）を結ばせていただきますので、ご安心ください。 |
ご質問、ご相談がございましたら、お気軽にお問い合わせください。
担当：岸本、塩屋
Ｅ－ｍａｉｌ： shinrai@smt-co.com
TEL: 06-6489-5941 FAX: 06-6489-5759