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研究支援事業部

物理分析・解析

表面・微小部分析、深さ方向分析
XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)
X線光電子分光法

アルバック・ファイ
写真1 装置:アルバック・ファイ

【原理】
特定のエネルギーを有したX線(hν)を物質表面に照射し、そこから放出された光電子の運動エネルギー
(EKIN)を測定し、その電子が原子に束縛されていた結合エネルギー(EB)を求める。

EB=hν-EKIN-φ


この結合エネルギー値は原子固有であり、さらに原子の結合状態によりわずかに変動する(化学シフト)。また光電子の強度はその原子の濃度と比例しているため、元素の同定、結合状態の推定、構成元素の比率を求めることが可能である。

 

【適用分野】

金属、半導体、無機、有機、高分子など全ての材料の表面分析


【特徴】

  • 検出可能元素:Li以降の全元素
  • 検出下限:0.1~1原子%(元素により異なるが、一般に原子番号の大きい元素の感度が高い)
  • X線ビーム径:最小9μmφ(従来のXPSでは数mmであったが、当社ではμ-ESCA{図1}を使用しているためX線ビーム径を絞ることが可能。→試料の狭い領域のみの分析が可能)
  • エネルギー分解能:最高0.5eV(Ag3d5/2)→高分解能状態分析が可能{図2}
  • 深さ方向分析:1nm/min~50nm/min程度まで任意のピッチで測定可能
  • 絶縁物分析:容易
  • マッピング分析:可能

【装置概要】

  • メーカ:アルバック・ファイ株式会社
  • 型式:Quantera SXM
  • ビーム径:最小9μmφ、通常100~200μmφ
  • Ar+イオンガン:0.1~5keV
  • スパッタ速度:1nm/min~50nm/min
  • 真空度:6.7x10-8Pa

装置概要
図2 PETの高分解能状態分析

【分析例】

【参考】
つうしん2001年 夏 No.32号―業務紹介(走査型X線光電子分光分析装置(マイクロESCA)のご紹介)

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研究支援事業部・解析技術部・物理解析室
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営業担当:川島(つくばラボ)、新谷、田中
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